项目背景
浙江某半导体设计及制造企业，总部位于杭州，专注于存储芯片及相关芯片的设计、制造，面向物联网、智传终端、工业控制及汽车电子领域提供半导体芯片和应用解决方案。
芯片制造随着线宽的降低，工艺更复杂，工序更繁琐，使用的化学品种类更多。很多关键工艺(如光刻工艺)需要在特定的洁净环境下进行。除了控制常规的悬浮颗粒污染物(TSP)的浓度，还需对洁净室内直径更小的气态分子污染物(AMC)浓度进行严格控制。且在特定区域(如黄光区)还需额外注意一些难溶化合物(Refractory Compounds，RC)的管控，以确保光刻机的镜头处于良好的使用环境。
对AMC的定义及分类
工业洁净厂房送风一般为新风空调箱补给及循环风供应，为了控制AMC的浓度，一般会在循环风系统中的风机过滤单元(FFU)上安装化学过滤器，对洁净厂房内特定区域进行相关空气治理。本次案例为改造案例，洁净室内黄光区FFU上已安装一片式化学过滤器，用于去除酸性化合物，碱性化合物及可凝结化合物。由于业务扩展因素，增加光刻机两台，并需对洁净室内难溶化合物(RC)进行重点管控。
产品介绍
美埃提供了该项目现场AMC采样服务，了解到实际浓度后，在现有FFU化学过滤器产品上再搭载RC化合物去除专用过滤器Puro-F 。
Puro-F化学过滤器外观图
化滤安装前后RC检测浓度对比
安装后，经第三方检测机构采样，成功将洁净室该区域RC化合物的浓度控制到0.1ppbv以下。且经过第三方检测机构对该区域RC化学物浓度的持续监测，该RC化学过滤器产品使用周期超出业主预计值三倍，达到了过滤行业领先水平。
化学过滤器安装前RC浓度(第三方报告)
化学过滤器安装后RC浓度（第三方报告）
RC过滤器安装前后浓度变化(第三方报告)
美埃产品应用领域主要包括洁净室空气净化、室内空气品质优化、大气污染排放治理。下游应用领域细分主要包括半导体、生物制药、食品、医疗机构、大型商用楼宇、公共场所、家居环境 、工业除尘、VOCs 治理等。
美埃配备投资建造千余平方米化学实验室，具备材料分析及采样分析能力，可进行阻力测试，初始效率测试，释放气体测试，发尘量测试等。配备丰裕的技术支持人员，经验丰富，可快速有效解决客户从售前，售中，到售后的相关系列问题，提供可靠的7*24小时服务。
美埃拥有超过20年提供空气净化解决方案的专业经验，一直以提供优质的产品和服务而著称，服务于不同的行业和大量的终端客户。
