根据国际半导体产业协会SEMI指出，2020年12寸晶圆厂设备支出投资较去年成长16%，预测2021 年将维持16%的增速，2022 年将再增长12%超800 亿美元。因新冠病毒疫情加速全球数字转型的推动下，并且随着5G、电动汽车、智能穿戴设备的普及化，未来对晶片的需求将会迎来井喷式的需求上涨。
从2018年开始，中美一路从贸易战打到科技战，中国发展半导体行业的挑战重重。然而，半导体行业发展除了拥有提升自主研发核心技术及制造工艺以外，还需要考虑基础硬件设施和建设等因素。在众多环节中，建设及维护半导体制程所必须的洁净厂房就显得至关重要了，除了需要让洁净室维持在恒温、恒湿、超洁净的无尘环境下，关键工艺区域还需要考虑气态污染物AMC的影响。
AMC的分类
随着制程工艺的不断升级迭代，单靠控制颗粒物已无法再提高良率，气态分子污染物AMC(Airborne Molecular Contamination)的控制技术已经成为半导体良率提升的必要手段。从2005年开始，美埃气态过滤事业部一直致力服务于中国大陆的晶圆厂，其中就包括国内某龙头集成电路制造企业。
该企业成立于2000年，是中国内地配套完善的跨国经营集成电路制造企业，能提供0.35微米到14纳米不同技术节点的晶圆代工与技术服务，包括逻辑芯片，混合信号/射频收发芯片，耐高压芯片，系统芯片，闪存芯片，EEPROM芯片，图像传感器芯片电源管理，微型机电系统等。
伴随着该企业生产的晶圆关键线宽尺寸从0.35微米缩减到14纳米节点，工作区域的空气质量稍有偏差都会直接影响产品的良率，对于AMC的控制要求可谓越来越苛刻， 各区域环境AMC浓度都设有严格的管控指标并进行长期的监控，而美埃也一直为客户的洁净室AMC控制护航，满足客户的要求。
通过十多年来与该客户的合作，配合芯片国产化的国家战略，美埃化滤事业部也一直精耕化学过滤器的产品研发，通过增大资本开销投入产品研发技术、加强产品在节能、降噪、减排方面的性能和指标，并满足客户群对洁净环境达标所需要的条件，促使产能提升、产品质量更优化，以期实现同客户一同成长，助力“中国芯”的发展。
